so we'll translate the text inside.
Paragraph: "EUV lithography uses light at 13.5 nanometers to etch circuits smaller than 7 nanometers. The light source is the hardest part. It requires firing high-power laser pulses at tiny tin droplets to create a plasma that emits EUV radiation. Collecting and focusing that light without losing most of it has been a decades-long engineering challenge."
Greek: "Η λιθογραφία EUV χρησιμοποιεί φως στα 13,5 νανόμετρα για να χαράξει κυκλώματα μικρότερα από 7 νανόμετρα. Η πηγή φωτός είναι το πιο δύσκολο μέρος. Απαιτεί την εκτόξευση παλμών λέιζερ υψηλής ισχύος σε μικροσκοπικές σταγόνες κασσιτέρου για να δημιουργηθεί ένα πλάσμα που εκπέμπει ακτινοβολία EUV. Η συλλογή και η εστίαση αυτού του φωτός χωρίς να χαθεί το μεγαλύτερο μέρος του αποτελεί μια μηχανική πρόκληση δεκαετιών."
Next: "The Shanghai team's platform achieved 3.42% conversion efficiency — meaning that fraction of the laser energy turned into usable EUV light. That number is still well below the 5-6% range of commercial systems from ASML, but it's a significant jump from earlier Chinese lab results that hovered around 1%."
Greek: "Η πλατφόρμα της ομάδας της Σαγκάης πέτυχε απόδοση μετατροπής 3,42% — δηλαδή αυτό το ποσοστό της ενέργειας του λέιζερ μετατράπηκε σε χρήσιμο φως EUV. Αυτός ο αριθμός εξακολουθεί να είναι πολύ κάτω από το εύρος 5-6% των εμπορικών συστημάτων της ASML, αλλά αποτελεί σημαντικό άλμα σε σχέση με τα προηγούμενα εργαστηριακά αποτελέσματα στην Κίνα που κυμαίνονταν γύρω στο 1%."
Next: "EUV lithography is the choke point for sub-7nm semiconductor production. Without it, you can't make the processors that power smartphones, AI accelerators, and advanced military hardware. China has been trying to build its own EUV tools for years, but the light source has been the biggest bottleneck."
Greek: "Η λιθογραφία EUV είναι το σημείο συμφόρησης για την παραγωγή ημιαγωγών κάτω των 7 νανόμετρων. Χωρίς αυτήν, δεν μπορείτε να κατασκευάσετε τους επεξεργαστές που τροφοδοτούν τα smartphones, τους επιταχυντές τεχνητής νοημοσύνης και το προηγμένο στρατιωτικό υλικό. Η Κίνα προσπαθεί εδώ και χρόνια να κατασκευάσει τα δικά της εργαλεία EUV, αλλά η πηγή φωτός ήταν το μεγαλύτερο
