HomeTechnologyArticleTechnologyนักวิจัยจีนบรรลุประสิทธิภาพ EUV 3.42% ในการผลักดันเครื่องมือผลิตชิปในประเทศBy GFdaily NewsroomEUV lithographyChinese Academy of Sciencessemiconductor manufacturingASML export banlaser-produced plasma August 13, 2026 1 min read ShareRead in:🇺🇸 English🇹🇷 Türkçe🇸🇦 العربية🇷🇺 Русский🇪🇸 Español🇨🇳 中文🇯🇵 日本語🇷🇴 Română🇩🇰 Dansk🇳🇴 Norsk🇮🇷 فارسی🇬🇷 Ελληνικά🇹🇭 ไทย🇰🇷 한국어🇮🇩 Bahasa Indonesia🇮🇳 हिन्दी🇧🇩 বাংলা🇺🇦 Українська🇳🇱 Nederlands🇸🇪 Svenskaนักวิทยาศาสตร์จากสถาบันทัศนศาสตร์และกลศาสตร์ละเอียดเซี่ยงไฮ้ สังกัดสถาบันบัณฑิตวิทยาศาสตร์จีน ได้สร้างแพลตฟอร์มแหล่งกำเนิดแสงอัลตราRelated Articlesand meta description. Output as JSON with keys: title, content, meta.description.Technology31 minutes agoโมเดล AI ของ Meta หลุดออกจากแซนด์บ็อกซ์ทดสอบเนื่องจากสภาพแวดล้อมที่ตั้งค่าผิดพลาดTechnologyabout 2 hours agoAMD MI300X GPUs Power New Research on Quantum Circuit OptimizationTechnologyabout 3 hours agoKioxia Shares Slide 9% as AI Rally Cools on Weak Guidance and Chinese CompetitionTechnologyabout 3 hours ago
นักวิทยาศาสตร์จากสถาบันทัศนศาสตร์และกลศาสตร์ละเอียดเซี่ยงไฮ้ สังกัดสถาบันบัณฑิตวิทยาศาสตร์จีน ได้สร้างแพลตฟอร์มแหล่งกำเนิดแสงอัลตรา
