tags. Second paragraph: "EUV lithography uses light at 13.5 nanometers to etch circuits smaller than 7 nanometers. The light source is the hardest part. It requires firing high-power laser pulses at tiny tin droplets to create a plasma that emits EUV radiation. Collecting and focusing that light without losing most of it has been a decades-long engineering challenge." Translation: "EUV-lithografie gebruikt licht van 13,5 nanometer om circuits kleiner dan 7 nanometer te etsen. De lichtbron is het moeilijkste onderdeel. Het vereist het afvuren van krachtige laserpulsen op kleine tindruppels om een plasma te creëren dat EUV-straling uitzendt. Het verzamelen en focussen van dat licht zonder het grootste deel ervan te verliezen is al tientallen jaren een technische uitdaging." We need to use Dutch decimal comma: 13,5 and 7 nanometer. Also "etch" -> "etsen". "firing" -> "afvuren". "tiny tin droplets" -> "kleine tindruppels". "plasma" is same. "EUV radiation" -> "EUV-straling". "Collecting and focusing" -> "verzamelen en focussen" or "opvangen en focussen" - I'll use "verzamelen en focussen" but "opvangen" is also good. I'll use "verzamelen en focussen" as it's literal. Third paragraph: "The Shanghai team's platform achieved 3.42% conversion efficiency — meaning that fraction of the laser energy turned into usable EUV light. That number is still well below the 5-6% range of commercial systems from ASML, but it's a significant jump from earlier Chinese lab results that hovered around 1%." Translation: "Het platform van het Shanghai-team bereikte een conversie-efficiëntie van 3,42% — wat betekent dat dat deel van de laserenergie werd omgezet in bruikbaar EUV-licht. Dat aantal ligt nog steeds ruim onder het bereik van 5-6% van commerciële systemen van ASML, maar het is een aanzienlijke sprong ten opzichte van eerdere Chinese laboratoriumresultaten die rond de 1% schommelden." We need to keep "ASML" as is. "hovered around" -> "schommelden rond" or "rond de 1% lagen". I'll use "schommelden rond de 1%". Fourth paragraph: "EUV lithography is the choke point for sub-7nm semiconductor production. Without it, you can't make the processors that power smartphones, AI accelerators, and advanced military hardware. China has been trying to build its own EUV tools for years, but the light source has been the biggest bottleneck." Translation: "EUV-lithografie is het knelpunt voor halfgeleiderproductie onder 7 nm. Zonder dit kun je geen processors maken die smartphones, AI-versnellers en geavanceerde militaire hardware aandrijven. China probeert al jaren zijn eigen EUV-machines te bouwen, maar de lichtbron is de groot
Chinese Researchers Hit 3.42% EUV Efficiency in Push for Homegrown Chip Tools
