tags. We'll keep that.
Second paragraph: "
The EUV breakthrough
" -> "Terobosan EUV
" or "Terobosan EUV". Then the paragraph: "EUV lithography uses light at 13.5 nanometers to etch circuits smaller than 7 nanometers. The light source is the hardest part. It requires firing high-power laser pulses at tiny tin droplets to create a plasma that emits EUV radiation. Collecting and focusing that light without losing most of it has been a decades-long engineering challenge."
Translation: "Litografi EUV menggunakan cahaya pada 13,5 nanometer untuk menggores sirkuit yang lebih kecil dari 7 nanometer. Sumber cahaya adalah bagian yang paling sulit. Ini membutuhkan menembakkan pulsa laser berdaya tinggi ke tetesan timah kecil untuk menciptakan plasma yang memancarkan radiasi EUV. Mengumpulkan dan memfokuskan cahaya itu tanpa kehilangan sebagian besar telah menjadi tantangan teknik selama puluhan tahun."
We need to be careful with "tin droplets" - "tetesan timah" is fine.
Third paragraph: "The Shanghai team's platform achieved 3.42% conversion efficiency — meaning that fraction of the laser energy turned into usable EUV light. That number is still well below the 5-6% range of commercial systems from ASML, but it's a significant jump from earlier Chinese lab results that hovered around 1%."
Translation: "Platform tim Shanghai mencapai efisiensi konversi 3,42% — artinya fraksi energi laser yang diubah menjadi cahaya EUV yang dapat digunakan. Angka itu masih jauh di bawah kisaran 5-6% dari sistem komersial ASML, tetapi ini merupakan lompatan signifikan dari hasil laboratorium China sebelumnya yang berkisar sekitar 1%."
Fourth paragraph: "EUV lithography is the choke point for sub-7nm semiconductor production. Without it, you can't make the processors that power smartphones, AI accelerators, and advanced military hardware. China has been trying to build its own EUV tools for years, but the light source has been the biggest bottleneck."
Translation: "Litografi EUV adalah titik tersendat untuk produksi semikonduktor sub-7nm. Tanpa itu, Anda tidak dapat membuat prosesor yang menggerakkan ponsel pintar, akselerator AI, dan perangkat keras militer canggih. China telah mencoba membangun peralatan EUV sendiri selama bertahun-tahun, tetapi sumber cahaya menjadi hambatan terbesar."
Fifth paragraph: "The platform is still a lab prototype. It's not a complete lithography machine. But the researchers say the efficiency gain brings them closer to a source that could eventually be integrated into a full scanner. The next steps involve scaling up the laser power and improving the collector optics — both expensive, long-lead-time problems."
Translation: "Platform ini masih prototipe laboratorium. Ini bukan mesin litografi lengkap. Tetapi para peneliti mengatakan peningkatan efisiensi membawa mereka lebih dekat ke sumber yang akhirnya dapat diintegrasikan ke dalam pemindai penuh. Langkah berikutnya melibatkan peningkatan daya laser dan memperbaiki optik kolektor — keduanya masalah yang mahal dan memakan waktu lama."
Sixth paragraph: "The ASML factor
" -> "Faktor ASML
"
Then: "ASML, the Dutch company that dominates the EUV market, has been barred by the Dutch government from selling its most advanced machines to China. That ban, aligned with U.S. export controls, means Chinese chipmakers like SMIC can't buy the Twinscan NXE systems needed for 5nm and 3nm production."
Translation: "ASML, perusahaan Belanda yang mendominasi pasar EUV, telah dilarang oleh pemerintah Belanda untuk menjual mesin tercanggihnya ke China. Larangan itu, sejalan dengan kontrol ekspor AS, berarti pembuat chip China seperti SMIC tidak dapat membeli sistem Twinscan NXE yang dibutuhkan untuk produksi 5nm dan 3nm."
Seventh paragraph: "China's domestic chip industry has been forced to rely on older deep-UV lithography, which can't reach the same resolution. The Shanghai Institute's work is part of a broader national push to break that dependency. Other Chinese labs and companies are working on different parts of the EUV tool chain — the mirrors, the vacuum systems, the wafer stages."
Translation: "Industri chip dalam negeri China telah dipaksa untuk mengandalkan litografi deep-UV yang lebih tua, yang tidak dapat mencapai resolusi yang sama. Pekerjaan Shanghai Institute adalah bagian dari dorongan nasional yang lebih luas untuk memutus ketergantungan itu. Laboratorium dan perusahaan China lainnya sedang mengerjakan berbagai bagian dari rantai peralatan EUV — cermin, sistem vakum, tahap wafer."
Eighth paragraph: "No timeline has been given for when a full Chinese EUV machine might be ready. The 3.42% efficiency is a milestone, but turning a lab result into a factory-floor tool that runs 24/
