tags.
Meta description: "Chinese Academy of Sciences researchers achieved 3.42% EUV light conversion efficiency, a step toward domestic advanced-chip lithography as ASML export bans persist." -> Persian.
We'll produce JSON.
Let's write the translation.
First, the title: "Chinese Researchers Hit 3.42% EUV Efficiency in Push for Homegrown Chip Tools" -> "محققان چینی به بازدهی ۳.۴۲ درصدی EUV در تلاش برای ابزارهای تراشه داخلی دست یافتند" but we can make it more concise: "دستیابی محققان چینی به بازدهی ۳.۴۲ درصدی EUV در مسیر تولید ابزارهای تراشه داخلی" but the original has "Hit" meaning achieved. I'll go with: "محققان چینی به بازدهی ۳.۴۲ درصدی EUV در تلاش برای ابزارهای تراشه داخلی دست یافتند"
Now content: We'll translate each paragraph.
First paragraph: "Scientists at the Chinese Academy of Sciences' Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics have built a laser-produced plasma extreme ultraviolet light-source platform that hit 3.42% conversion efficiency. The result, published in a March 2025 paper, marks a concrete step toward domestic production of the lithography machines needed to make the world's most advanced chips."
Translation: "دانشمندان انستیتو اپتیک و مکانیک دقیق شانگهای وابسته به آکادمی علوم چین، یک پلتفرم منبع نور فرابنفش شدید (EUV) مبتنی بر پلاسمای تولیدشده با لیزر ساختهاند که به بازدهی تبدیل ۳.۴۲ درصدی دست یافته است. این نتیجه که در مقالهای در مارس ۲۰۲۵ منتشر شده، گامی ملموس به سوی تولید داخلی ماشینهای لیتوگرافی مورد نیاز برای ساخت پیشرفتهترین تراشههای جهان است."
We need to keep "EUV" as is, but we can explain it. Also "extreme ultraviolet" is "فرابنفش شدید" but we can keep EUV in parentheses. We'll do: "منبع نور فرابنفش شدید (EUV)" but we already have EUV in the title. We'll keep it.
Second paragraph: "EUV lithography uses light at 13.5 nanometers to etch circuits smaller than 7 nanometers. The light source is the hardest part. It requires firing high-power laser pulses at tiny tin droplets to create a plasma that emits EUV radiation. Collecting and focusing that light without losing most of it has been a decades-long engineering challenge."
Translation: "لیتوگرافی EUV از نور با طول موج ۱۳.۵ نانومتر برای حکاکی مدارهای کوچکتر از ۷ نانومتر استفاده میکند. منبع نور سختترین بخش آن است. این کار نیازمند شلیک پالسهای لیزری پرقدرت به قطرات ریز قلع برای ایجاد پلاسمایی است که تابش EUV ساطع میکند. جمعآوری و متمرکز کردن این نور بدون از دست دادن بخش عمدهای از آن، یک چالش مهندسی چند دههای بوده است."
Third paragraph: "The Shanghai team's platform achieved 3.42% conversion efficiency — meaning that fraction of the laser energy turned into usable EUV light. That number is still well below the 5-6% range of commercial systems from ASML, but it's a significant jump from earlier Chinese lab results that hovered around 1%."
Translation: "پلتفرم تیم شانگهای به بازدهی تبدیل ۳.۴۲ درصدی دست یافته است — یعنی آن کسری از انرژی لیزر که به نور EUV قابل استفاده تبدیل شده است. این عدد همچنان بسیار کمتر از محدوده ۵ تا ۶ درصدی سیستمهای تجاری ASML است، اما جهش قابل توجهی نسبت به نتایج قبلی آزمایشگاههای چین که حدود ۱ درصد بود، محسوب میشود."
Fourth paragraph: "EUV lithography is the choke point for sub-7nm semiconductor production. Without it, you can't make the processors that power smartphones, AI accelerators, and advanced military hardware. China has been trying to build its own EUV tools for years, but the light source has been the biggest bottleneck."
Translation: "لیتوگرافی EUV نقطه گلوگاهی برای تولید نیمههادیهای زیر ۷ نانومتر است. بدون آن، نمیتوان پردازندههایی ساخت که گوشیهای هوشمند، شتابدهندههای هوش مصنوعی و سختافزارهای نظامی پیشرفته را تغذیه میکنند. چین سالهاست تلاش میکند ابزارهای EUV خود را بسازد، اما منبع نور بزرگترین گلوگاه بوده است."
Fifth paragraph: "The platform is still a lab prototype. It's not a complete lithography machine. But the researchers say the efficiency gain brings them closer to a source that could eventually be integrated into a full scanner. The next steps involve scaling up the laser power and improving the collector optics — both expensive, long-lead-time problems."
Translation: "این پلتفرم هنوز یک نمونه آزمایشگاهی است. این یک ماشین لیتوگرافی کامل نیست. اما محققان میگویند افزایش بازدهی آنها را به منبعی نزدیکتر میکند که در نهایت بتواند در یک اسکنر کامل ادغام شود. مراحل بعدی شامل افزایش قدرت لیزر و بهبود اپتیک جمعکننده است — هر دو مشکلاتی پرهزینه و با زمانبر طولانی هستند."
Sixth paragraph: "ASML, the Dutch company that dominates the EUV market, has been barred by the Dutch government from selling its most advanced machines to China. That ban, aligned with U.S. export controls, means Chinese chipmakers like SMIC can't buy the Twinscan NXE systems needed for 5nm and 3nm production."
Translation: "ASML، شرکت هلندی که بازار EUV را در دست دارد، توسط دولت هلند از فروش پیشرفتهترین ماشینهای خود به چین منع شده است. این ممنوعیت که با کنترلهای صادراتی ایالات متحده هماهنگ است، به این معناست که تولیدکنندگان تراشه چینی مانند SMIC نمیتوانند سیستمهای Twinscan NXE مورد نیاز برای تولید ۵ نانومتر و ۳ نانومتر را خریداری کنند."
Seventh paragraph: "China's domestic chip industry has been forced to rely on older deep-UV lithography, which can't reach the same resolution. The Shanghai Institute's work is part of a broader national push to break that dependency. Other Chinese labs and companies are working on different parts of the EUV tool chain — the mirrors, the vacuum systems, the wafer stages."
Translation: "صنعت تراشه داخلی چین مجبور شده است به لیتوگرافی قدیمیتر فرابنفش عمیق (DUV) تکیه کند که به همان وضوح نمیرسد. کار انستیتو شانگهای بخشی از تلاش ملی گستردهتر برای شکستن این وابستگی است. آزمایشگاهها و شرکتهای چینی دیگر روی بخشهای مختلف زنجیره ابزار EUV کار میکنند — آینهها، سیستمهای خلأ، مراحل ویفر."
Eighth paragraph: "No timeline has been given for when a full Chinese EUV machine might be ready. The 3.42% efficiency is a milestone, but turning a lab result into a factory-floor tool that runs 24/7 with sub-nanometer precision is a different game entirely."
Translation: "هیچ جدول زمانی برای آماده شدن یک ماشین کامل EUV چینی ارائه نشده است. بازدهی ۳.۴۲ درصد یک نقطه عطف است، اما تبدیل یک نتیجه آزمایشگاهی به ابزاری در کارخانه که به صورت
